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産総研の情報漏洩で中国人研究員逮捕!中国企業が約1週間後に特許申請も 「フッ素化合物」の合成技術 中国の産業スパイに懸念


*産業技術総合研究所
国立研究開発法人「産業技術総合研究所」で技術情報の漏洩事件が発生し、その事件直後に中国が同じ技術から着想を得たと思われる特許申請を1週間後に行っていたことが分かりました。

読売新聞やNHKの記事によると、逮捕されたのは国立研究開発法人「産業技術総合研究所」(茨城県つくば市)に勤務していた中国籍の主任研究員・権恒道容疑者(59)で、フッ素化合物に関する技術情報を中国の企業に漏えいした疑いがあるとのことです。

権恒道容疑者が中国側に漏えいしたのは産業技術総合研究所で研究されていた「フッ素化合物」の合成技術で、精密機器などに流用する予定だったところ、権恒道容疑者から研究データの提供を受けたと見られる中国企業がその約1週間後に中国で類似の技術が特許として申請されたと報告。

日本側から盗み出した技術データを流用したものである可能性が高く、産業スパイが実際に行われていたことを示す情報だとして大きな注目を集めています。

中国は日本の各地に情報収集を行うための産業スパイを送り込んでいるとも言われ、今回のような情報漏えい騒動は氷山の一角に過ぎないと分析されているところです。

 

産総研漏えい、データ提供の1週間後に中国企業が特許申請…内容が類似
https://www.yomiuri.co.jp/national/20230617-OYT1T50066/

 国立研究開発法人「産業技術総合研究所」(茨城県つくば市)の技術情報漏えい事件で、中国籍の主任研究員・権恒道容疑者(59)(不正競争防止法違反容疑で逮捕)から研究データの提供を受けた中国企業が、約1週間後に中国で特許を申請していたことが捜査関係者への取材でわかった。内容が類似しており、警視庁公安部は研究データを転用したとみている。

産総研の中国籍研究員を逮捕 中国企業に情報漏えいの疑い
https://www3.nhk.or.jp/news/html/20230615/k10014100381000.html

茨城県つくば市にある「産業技術総合研究所」の中国籍の研究員が、フッ素化合物に関する技術情報を中国の企業に漏えいしたとして、不正競争防止法違反の疑いで警視庁に逮捕されました。
逮捕されたのは、国立研究開発法人「産業技術総合研究所」の上級主任研究員で、中国籍の権恒道(59)容疑者です。

 

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